三星:3 纳米 GAA 制程研发进度领先台积电,将尽早实现商业化
做啦 8 月 26 日消息据韩媒 BusinessKorea 报道,三星电子设备解决方案(DS)业务部首席技术官 Jeong Eun-seung 宣布,作为下一代代工微制造工艺的核心,全环绕栅极(Gate-All-Around,GAA)技术将尽早实现商业化。Jeong 在 8 月 25 日在线举行的三星技术与职业论坛上发表主题演讲时说:“我们正在领先于我们的主要竞争对手(台积电)开发 GAA 技术,如果我们攻克这项技术,我们的代工业务将能够进一步发展。”该论坛是由三星电子的 DS 业务部创建的,...