南大光电：公司 ArF 光刻胶产品拿到小批量订单，可用于 55nm 工艺
做啦 7 月 2 日消息今日南大光电发布消息，称该公司 ArF 光刻胶产品拿到小批量订单。在 5 月 31 日，江苏南大光电材料股份有限公司公告称，其控股子公司宁波南大光电材料有限公司自主研发的 ArF 光刻胶产品，再次通过了客户认证，其具备 55nm 平台后段金属布线层的工艺要求。做啦了解到，ArF 光刻胶材料是半导体制造的关键材料，可以用于 90nm-14nm甚至 7nm 技术节点的集成电路制造工艺。此前我国国产光刻胶主要集中在中低端产品，但是用于精密工艺的 ArF 光刻胶一直以来被国外厂商...
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